SK海力士CEO Seok-hee Lee(李曦曦)近日就无锡海力士半导体厂一事与媒体进行了沟通。
其中，EUV口罩对准器的问题备受关注。李希希说，他正在与美国合作，并取得良好进展。EUV光刻机技术已经在韩国DRAM生产线得到应用，中国工厂还有充足的时间进行调解和沟通。
据悉，无锡工厂SK Hynix引进的掩膜版对准器将用于制造10纳米DRAM芯片，即第四代存储器。
